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															極紫外（EUV）光刻膠材料 
															
      
								
      極紫外（EUV）光刻膠材料 
      
								
      
									
      
										
      交易信息：
      
										
      
																						
      完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
      
																					
      
									
      
									
      
										
      技術(shù)領(lǐng)域：
      
										
      
											
      
											
      應(yīng)用領(lǐng)域：
      
											
      最后更新時間：2022-07-28 15:21
      
										
      
									
      
									
      
										
      所在地：
      
										
      
											
      吉林省 長春市 南關(guān)區(qū)
       
										
      
									
      
									
      
										
      所有者：
      
										
      
											
      管理員
       
										
      
									
      
									
      
										
      聯(lián)系方式：
      
										
      
											
      13756056562
       
										
      
									
      
								
      
							
      
						 
      
						 
						 
      
							 
      
								 
								 
      
									 
      
										 具有自主知識產(chǎn)權(quán)的EUV光刻膠的成功研發(fā)，填補(bǔ)了我國在超高精細(xì)光刻膠研發(fā)領(lǐng)域的空白，將為擺脫國內(nèi)高檔光刻膠材料完全依賴進(jìn)口的格局，促進(jìn)我國集成電路制造產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到積極的促進(jìn)作用。在此工作的基礎(chǔ)上，以獲得的光刻膠主體材料為核心，通過配方和工藝研發(fā)，實(shí)現(xiàn)了193nm曝光機(jī)光刻，為我國開展193nm和193nm浸沒式光刻膠的研發(fā)打下了基礎(chǔ)。									 
      
									 
      
										 

      具有自主知識產(chǎn)權(quán)的EUV光刻膠的成功研發(fā)，填補(bǔ)了我國在超高精細(xì)光刻膠研發(fā)領(lǐng)域的空白，將為擺脫國內(nèi)高檔光刻膠材料完全依賴進(jìn)口的格局，促進(jìn)我國集成電路制造產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到積極的促進(jìn)作用。在此工作的基礎(chǔ)上，以獲得的光刻膠主體材料為核心，通過配方和工藝研發(fā)，實(shí)現(xiàn)了193nm曝光機(jī)光刻，為我國開展193nm和193nm浸沒式光刻膠的研發(fā)打下了基礎(chǔ)。
      

									 
      
									 
      
										 阿薩德1111245